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晶圓的精密研磨拋光,TTV控制,平整度控制,表面粗糙度控制等。
易碎材料如InP,GaAs等,當(dāng)減薄拋光到100微米左右或以下厚度時(shí),對(duì)晶圓的下片,轉(zhuǎn)移,清洗等都會(huì)比較困難
芯片,晶體及光纖端面的精密研磨拋光,平面/8度角/10度角/15度角等有角度端面的精密研磨拋光。
晶圓與襯底的臨時(shí)粘結(jié),研磨拋光后的晶圓取片下片的解決方案
本方案用于LD bar條的堆取,有手動(dòng),半自動(dòng)及全自動(dòng)方案供選擇。