AFTEX-8000系列成膜設備

使用高活性高密度ECR（電子回旋共振）等離子體源，通過在等離子體引出部配置目標，實現(xiàn)基于固體源的ECR等離子體成膜。因為不需要使用CVD那樣危險的氣體，所以不需要排氣處理，是對地球環(huán)境友好的成膜技術(shù)。

AFTEX-8000系列是在1個成膜室搭載2個傾斜配置的ECR等離子體源，在高質(zhì)量的光學薄膜等最大8英寸直徑的基板上形成均勻性出色的多層膜，C to C枚葉式全自動多層膜形成裝置。使用高活性高密度ECR（電子回旋共振）等離子體源，通過在等離子體引出部配置目標，實現(xiàn)基于固體源的ECR等離子體成膜。因為不需要使用CVD那樣危險的氣體，所以不需要排氣處理，是對地球環(huán)境友好的成膜技術(shù)。